728x90
반응형
(개념) 반도체 포토리소그래피 공정에서 한 번의 노광으로 만들 수 있는 칩 다이의 최대 크기 제한
- 레티클은 원래 웨이퍼에 회로를 투영할 때 쓰는 마스크이고, 장비가 한 번에 비출 수 있는 면적이 정해져 있습니다. 그래서 칩 면적이 레티클 한계를 넘으면 단일 모놀리식 칩으로 만들기 어려워지고, 수율 저하와 정렬 복잡도가 커집니다.
- 최근에는 이 한계를 넘기 위해 칩렛(chiplet) 방식이 많이 쓰입니다. 큰 칩 하나를 억지로 만드는 대신, 여러 개의 작은 다이를 만들어 고급 패키징으로 연결해 성능과 수율을 함께 확보하는 방식입니다.

728x90
'12. 메일진' 카테고리의 다른 글
| LLM - 성능 - 최적화 - TurboQuant: 초압축 기술을 통한 AI 효율성의 재정의 (0) | 2026.05.20 |
|---|---|
| 2026 - 교육 - MIT, 유니버설 AI(Universal AI) (0) | 2026.05.18 |
| [용어] Residual stream (0) | 2026.05.17 |
| 2026 - 스탠퍼드대학 인간중심 AI연구소(HAI) 생성형 인공지능의 가치 (0) | 2026.05.16 |
| 2026 - 세계경제 전망(업데이트) (작성일 2026-05-12) (0) | 2026.05.16 |


